ATI過濾(lv)器(qi)檢(jian)漏方(fang)法分(fen)析

     塵(chen)埃粒(li)子計(ji)數(shu)器檢漏簡單行(xing)。在(zai)過濾(lv)器(qi)上(shang)風(feng)側(ce)，以(yi)大氣(qi)層(ceng)作(zuo)為(wei)塵(chen)源，在(zai)下(xia)風側(ce)用(yong)塵(chen)埃粒(li)子計(ji)數(shu)器采樣(yang)頭掃(sao)描(miao)。

具(ju)體檢測(ce)方(fang)法如下(xia)：

1、檢測(ce)儀器(qi)：塵(chen)埃粒(li)子計(ji)數(shu)器：

2、測試(shi)方(fang)法：塵(chen)埃粒(li)子計(ji)數(shu)掃描巡(xun)檢(jian)法．

3、測試(shi)範圍(wei)：過濾(lv)器(qi)的(de)濾(lv)材(cai)，過濾(lv)器(qi)框(kuang)架(jia)的(de)密封和(he)過濾(lv)器(qi)組支(zhi)撐框(kuang)架(jia)之(zhi)問(wen)的(de)連接、支(zhi)撐框(kuang)架(jia)和(he)固(gu)壁間(jian)連接(jie)

4、檢測(ce)原理：根(gen)據浮(fu)遊粒(li)子在(zai)壹(yi)強(qiang)度(du)的(de)光照(zhao)下(xia)所散射(she)出與其粒(li)徑(jing)成(cheng)壹(yi)比例(li)關(guan)系(xi)的(de)光通(tong)量(liang)原理，粒(li)子散(san)射(she)光經(jing)光電(dian)轉換(huan)變成(cheng)電(dian)信號(hao)，經放(fang)大和(he)計(ji)算(suan)機處理(li)後(hou)被(bei)顯示粒(li)子當(dang)量(liang)直徑(jing)和(he)相(xiang)應(ying)粒(li)子數(shu)量(liang)．

5、檢測(ce)程序：（1）用(yong)塵(chen)埃粒(li)子計(ji)數(shu)器采樣(yang)頭掃(sao)描(miao)過濾(lv)器(qi)的(de)嵌(qian)風(feng)側，采樣(yang)頭離(li)過濾(lv)器(qi)距離(li)約(yue)2cm，沿(yan)過濾(lv)器(qi)內(nei)邊(bian)框(kuang)等(deng)巡(xun)檢(jian)，掃(sao)描速度(du)低於5cm／s．（2）當檢(jian)測(ce)周期(qi)為(wei)10min 時(shi)，0.5u m 粒(li)子數(shu)>20，報警叫(jiao)響，表明(ming)泄(xie)漏量(liang)起標．需(xu)要修補或(huo)更(geng)淩。（3）用(yong)環(huan)氧樹脂膠堵(du)漏或(huo)緊(jin)固(gu)螺(luo)栓(shuan)後，再進行掃(sao)描(miao)巡(xun)檢(jian)．

6、檢測(ce)周(zhou)期(qi)（1）正常(chang)使用(yong)。每(mei)季(ji)度至(zhi)少(shao)檢(jian)測壹次.（2）新裝(zhuang)過濾(lv)器(qi)應(ying)進行檢(jian)測(ce)．采用(yong)塵(chen)埃粒(li)子計(ji)數(shu)器掃描(miao)方(fang)法雖(sui)然檢(jian)測時(shi)間(jian)較長(chang)，壹般壹個(ge)過濾(lv)器(qi)檢(jian)漏需(xu)用(yong)壹(yi)小(xiao)時右右，但(dan)測(ce)試(shi)設(she)備(bei)價(jia)格(ge)低，是(shi)企業(ye)常(chang)用(yong)的(de)測(ce)試(shi)儀器(qi)，不(bu)存(cun)在(zai)負(fu)效應隱(yin)患(huan)，較適合於壹(yi)般藥(yao)品(pin)生(sheng)產(chan)企業(ye)驗證(zheng)時選(xuan)用(yong)。

以(yi)上就(jiu)是(shi)對過濾(lv)器(qi)檢(jian)漏方(fang)法的分(fen)析。